線(xiàn)性漸變濾光片（ＬＶＦ）是一種光譜特性隨位置線(xiàn)性變化 的光學(xué)器件。它是采用離子輔助法或離子束濺射法等工藝， 通過(guò)在基底表面鍍制多層厚度變化的膜系而形成的。相比傳 統的窄帶濾光片，線(xiàn)性漸變?yōu)V光片具有接近連續的光譜通 道，因此采用線(xiàn)性漸變?yōu)V光片進(jìn)行分光可以獲得較高的光譜 分辨率。光通訊中的波分復用技術(shù)（ＷＤＭ）和密集波分復用 技術(shù)（ＤＷＤＭ）就是將線(xiàn)性漸變?yōu)V光片耦合在光纖傳輸端口， 在不增加光纖數量的基礎上將通訊傳輸量擴大幾十倍乃至幾 百倍。線(xiàn)性漸變?yōu)V光片的另一個(gè)應用領(lǐng)域是光譜成像技 術(shù)，相比于棱鏡和光柵型等光譜成像儀，基于線(xiàn)性漸變?yōu)V 光片的光譜成像儀具有高集成度、高穩定性和高分辨率等特 點(diǎn)，其整機結構緊湊，體積小重量輕，同時(shí)研發(fā)和制造成本 較低，具有很好的應用前景。線(xiàn)性漸變?yōu)V光片還可用于便攜 式分光計、光柵二級次光分離／截至、激光反射鏡設計等方 面和領(lǐng)域。

由于鍍膜工藝的限制，在線(xiàn)性漸變?yōu)V光片的鍍制過(guò)程中 會(huì )引入各種誤差，使得成品濾光片與設計特性產(chǎn)生偏差，并 且使用環(huán)境，如溫度、濕度、壓力等的變化會(huì )造成濾光片特 性的改變。若要將其應用于相關(guān)方面的設計，就必須對其實(shí) 際特性進(jìn)行檢測以進(jìn)行預標定。