可見(jiàn)光衰減片
注:以上參數僅供參考,可見(jiàn)光衰減片參數指標請咨詢(xún)我公司的在線(xiàn)客服人員或致電我公司。可見(jiàn)光衰減片光學(xué)指標:截止波段:400~700nm@T=0.001%,0.01%,0.1%,1%,10%,20%,30%,40%,50%,60%,70%,80%,90%。
相關(guān)名詞解釋
可見(jiàn)光衰減片應用領(lǐng)域:醫療設備光探測器、臨床生化分析設備、化學(xué)檢測設備、各種光學(xué)儀器設備、電子學(xué)顯像系統、紫外測量?jì)x器、各種激光器、光學(xué)數碼照相機、攝像機、安防監控攝像機、光通訊衰減濾波器。
使用注意事項:
1.使用時(shí)請戴好手指套,不要用手指直接觸碰可見(jiàn)光衰減片表面,以免殘留的手指影響中性密度濾光片通光效果。
2.如可見(jiàn)光衰減片表面臟時(shí),可用無(wú)塵沾上酒精擦拭鏡片表面。不可用表面很粗糙的布或紙或沾水擦拭,否則會(huì )損壞可見(jiàn)光衰減片表面。
3.檢查光路各調整光軸時(shí),請一定做好相應的防護。
4.如果用了可見(jiàn)光衰減片后系統效果還是不好,請把詳細光路系統告訴我們,我們來(lái)幫您分析原因,讓您少走很多冤枉路。(當然,我們會(huì )對客戶(hù)的方案保密,盡可放心!和客戶(hù)一起成長(cháng)是我們不變的宗旨)。
可見(jiàn)光衰減片的方法有很多種,包括電鍍、化學(xué)鍍,真空蒸發(fā)鍍以及磁控 濺射鍍膜法。
工業(yè)化生產(chǎn)中人們既關(guān)心產(chǎn)品的綜合性能又要考慮制備成本,在 以上制備方法中化學(xué)鍍膜工藝流程簡(jiǎn)單,成本低廉,且操作簡(jiǎn)便,因此受到人 們的重視,但該方法會(huì )產(chǎn)生廢液,污染環(huán)境;磁控濺射鍍膜工藝技術(shù)先進(jìn), 制備的薄膜具有質(zhì)量保證,是目前廣泛應用的一種制備手段,相比于其他方 法,磁控濺射鍍膜具有成膜速率高,基片溫度低,膜粘附性好等鍍膜優(yōu)點(diǎn),而 且對環(huán)境無(wú)污染,適合低碳要求,是一種綠色制造技術(shù),是最有發(fā)展前景的表 面涂覆技術(shù)之一 。
從市場(chǎng)需求的角度看,滿(mǎn)足光衰減器小型集成化、系列 化的發(fā)展,但其使用設備儀器復雜,靶材尺寸固定,原材料需要加工,成本相 對較高 。
基于產(chǎn)品性?xún)r(jià)比的考慮,有必要對化學(xué)鍍和磁控濺射鍍這兩種典 型鍍膜方法進(jìn)行綜合分析和對比,進(jìn)而研究工藝參數對 Ni/Si O 2 光衰減片的表 面形貌、晶體結構、三維結構、粗糙度以及對光衰減率的影響,通過(guò)調節工藝 參數來(lái)獲得具有不同光衰減率的光衰減片,從而滿(mǎn)足人們對不同膜系功能的需 求。
800nm短波通濾光片
中心波長(cháng):800+/-5nm透過(guò)波段:350-790nm截止波長(cháng):810-1100nm峰值透過(guò)率 :>90%( 按客戶(hù)需求)產(chǎn)品尺寸 :( 按客戶(hù)需求 )截止深度 :>OD4-OD6 UV-NIR產(chǎn)品材質(zhì) :光學(xué)級別類(lèi)玻璃( K9,BK7,B27…
LP780nm長(cháng)波通濾光片
光學(xué)指標: 透過(guò)波段:785nm-1100nm最低透過(guò)率:T>88% 中心波長(cháng):780nm±3 截止波段:400nm-750nm
850nm窄帶濾光片
尺寸:1x1mm~80x80mm或φ4~79mm厚度:0.4-1.1mm中心波長(cháng):850nm峰值透射率:T>85%半帶寬:20~40nm
LP460nm長(cháng)波通濾光片
光學(xué)指標:中心波長(cháng):460±5nm透過(guò)波長(cháng):465nm-1200nm平均透過(guò)率:T>90%截止波段:350nm-455nm