505nm可見(jiàn)光窄帶濾光片

濾光片在越來(lái)越多的光學(xué)領(lǐng)域中起到了相當重要的作用，但是我們經(jīng)常使用的濾光片是怎么鍍膜，怎么制作出濾光片成品的呢？賡旭光電帶您一覽濾光片鍍膜的神秘面紗。     

 濾光片基片用干凈的布片和有機溶劑進(jìn)行清潔處理。將鍍膜機真空室內放氣后，用吸塵器清理鐘罩內部，在鉬舟內填裝待蒸發(fā)膜料，記錄下各個(gè)舟的膜料名稱(chēng)。并在基片架上安放基片，勿使基片傾斜。落下鐘罩，按鍍膜機操作規程對真空室進(jìn)行抽真空。當真空度達到3710Pa-′以后，依次對舟預熔，去除膜料中的氣體。此時(shí)，應注意用擋板擋住膜料，以保證預熔中基片不被鍍上。當真空度達到要求后，采用/4l極值發(fā)控制光學(xué)厚度的方法進(jìn)行鍍制，可以選擇前面給出的兩種膜系中的任意一個(gè)膜系鍍膜，將控制波長(cháng)放在632.8nm或其他波長(cháng)。首先在玻璃基片上鍍制H層。隨著(zhù)膜層增厚，放大器指示的光電流將下降。當光電流數值剛剛開(kāi)始回升時(shí)，立即將擋板擋上。然后，降電流換電極，鍍L層。鍍L層時(shí)，光電流隨著(zhù)膜厚增加而上升，達到極值時(shí)停止鍍膜，重復以上步驟鍍H層。當鍍制光學(xué)厚度為/2l的間隔層時(shí)，厚度增加一倍 ，應在光電流上升再下降到極值時(shí)停止。以后幾層同前幾層一樣控制，但變化規律相反。  鍍膜結束后，依鍍膜機操作規程停止加熱和抽真空。半小時(shí)后，方可對鍍膜機真空室充氣，取出所鍍制的干涉濾光片。然后按操作規程再對鍍膜機抽真空，以保持清潔，最后停機。